發(fā)布日期:2025-8-31 16:00:04
鍍金層外觀華貴而典雅,并具有優(yōu)異的導(dǎo)電性和耐蝕性,因此不僅可用于精飾加工,又可應(yīng)用于電子工業(yè)領(lǐng)域[1]。含少量鈷的鍍金層色澤高于23K,廣泛用作高端裝飾品的鍍層。鋅合金壓鑄件鍍金的傳統(tǒng)工藝環(huán)節(jié)一般依次為氰化物鍍銅、焦磷酸鹽鍍銅、鍍酸銅、鍍光亮鎳和鍍金。然而,氰化物存在高污染性和高風(fēng)險(xiǎn)性,已被國(guó)家發(fā)改委頒布的《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導(dǎo)目錄(2011年本)》列為禁止使用的物質(zhì)。研究發(fā)現(xiàn),采用現(xiàn)有的二價(jià)銅無氰鍍銅工藝在鋅合金或鋼鐵表面直接鍍銅時(shí),存在鍍層結(jié)合力不高的問題,這也是該技術(shù)發(fā)展的瓶頸[2-3]。
筆者前期已開發(fā)出聚合硫氰酸鹽鍍銅工藝[4-6],后又在此基礎(chǔ)上經(jīng)過系列研究開發(fā)了聚合硫氰酸鹽鍍銅鋅合金工藝[7-12]。該無氰鍍銅鋅合金工藝以聚合硫氰酸鈉作為配位劑,聚合硫氰酸亞銅和聚合硫氰酸鋅作為主鹽配制鍍液,其工藝特征與傳統(tǒng)氰化物鍍銅鋅合金工藝相當(dāng),鍍層性能優(yōu)于聚合硫氰酸鹽鍍銅層,有望取代氰化物鍍銅工藝。
傳統(tǒng)工藝通常在光亮鎳鍍層上鍍金,可獲得較為理想的外觀效果[13-14]。但由于光亮鎳鍍層的耐蝕性不高,在鹽霧試驗(yàn)中往往首先發(fā)生腐蝕,這種鍍層結(jié)構(gòu)并不能充分發(fā)揮出鍍金層的高耐蝕性。
電鍍鎳錫合金具有烏亮銀白色的外觀和優(yōu)異的耐蝕性,深受人們青睞,近年得到了不斷的改善和發(fā)展。鎳錫合金鍍層可作為裝飾性鍍層,通常用于代替?zhèn)鹘y(tǒng)的鍍鉻層。在光亮鍍鎳層上鍍鎳錫合金可制備很薄的鍍層,并且與底層金屬結(jié)合良好,且鍍層韌性高,經(jīng)彎曲不脫落、起皮或開裂。然而,鎳錫合金鍍層本身具有一定的脆性,因而不適合制備較厚的鍍層[15]。此外,鎳錫合金鍍層表面容易鈍化,通常用作面鍍層,而不宜用作中間鍍層。倘若能夠解決在鎳錫合金鍍層上鍍金的結(jié)合力問題,將有望顯著提高整體鍍層的耐蝕性。
這對(duì)上述問題,筆者所在公司開發(fā)了AUORO8706鍍沖擊金工藝,該工藝能都沉積出20K~24K的鍍金層,適用于裝飾性薄金電鍍。鍍沖擊金與業(yè)界熟知的鍍沖擊鎳相似,適用于在容易鈍化的金屬及鍍層表面電鍍。基于此,結(jié)合電位活化理論與實(shí)驗(yàn)研究[16-18],進(jìn)一步開發(fā)了在高防腐鎳錫合金鍍層上鍍沖擊金的新工藝,為在易鈍化表面實(shí)現(xiàn)高性能鍍金提供了可行的技術(shù)路徑,對(duì)推動(dòng)無氰電鍍工藝在高端裝飾性鍍層中的應(yīng)用具有積極意義。
1、工藝流程
在鋅合金壓鑄件基體上制備高耐蝕性鍍金層,工藝流程為:化學(xué)除蠟→水洗→超聲波除蠟→水洗→超聲波除油→水洗→活化→水洗→無氰鍍銅鋅合金→水洗→焦磷酸鹽鍍銅→水洗→鍍酸銅→水洗→鍍光亮鎳→水洗→鍍高防腐鎳錫合金→水洗→鍍沖擊金→水洗→烘干。
1.1前處理
1)除蠟:超邦化工BIOWAS102強(qiáng)力除油粉60~75g/L,溫度15~80°C,溫和空氣攪拌,時(shí)間4~10min。
2)除油:超邦化工BIOWAS103強(qiáng)力除油粉60~75g/L,溫度40~80°C,超聲波頻率20~30kHz,時(shí)間4~10min。
3)活化:超邦化工GP-2活化酸鹽8~15g/L,室溫,時(shí)間1~2min。
1.2無氰鍍銅鋅合金
采用聚合硫氰酸鹽體系鍍液[7],鍍層厚度為4~7μm。配方和工藝條件為:銅鹽18~24g/L,鋅鹽 9~13g/L,聚合硫氰酸鈉(作為配位劑)130~170g/L,光亮劑8~12mL/L,溫度35~55°C,pH 10~12,陰極電流密度0.5~1.5A/dm2,陰極移動(dòng)速率3~5m/min,陽極(Cu質(zhì)量分?jǐn)?shù)為68%的黃銅板)移動(dòng)速率3~5m/min,陽極與陰極面積比>2∶1。
1.3焦磷酸鹽鍍銅
采用超邦化工的PC-1289焦磷酸鹽鍍銅工藝,鍍層厚度為5~10μm。配方和工藝條件為:焦磷酸銅70~90g/L,焦磷酸鉀240~270g/L,氨水2.5~4.5mL/L,PC-1289添加劑1.5~3mL/L,溫度50~ 58°C,pH8.6~9.0,陰極電流密度2~5A/dm2,空氣攪拌。
1.4鍍酸銅
采用超邦化工的M-4000酸性鍍銅工藝,鍍層厚度為6~18μm。配方和工藝條件為:五水合硫酸銅170~220g/L,硫酸50~80g/L,氯離子30~100mg/L,M-4000MU開缸劑5~10mL/L,M-4000A光亮劑0.2~0.8mL/L,M-4000B光亮劑0.2~1.0mL/L,溫度18~35°C,陰極電流密度2~8A/dm2,陽極電流密度0.5~3A/dm2,連續(xù)過濾加空氣攪拌。
1.5鍍光亮鎳
采用超邦化工的NINFEA8002高填平光亮鎳電鍍工藝,鍍層厚度為5~10μm。配方和工藝條件為:六水合硫酸鎳240~300g/L,六水合氯化鎳45~70g/L,硼酸37~45g/L,NINFEA8002主光劑0.6~1.0mL/L,NINFEASC-263柔軟劑8~15mL/L,NINFEAAS-250輔助劑1~4mL/L,NINFEANI-35濕潤(rùn)劑0.2~1.0mL/L,pH4.0~4.6,溫度55~65°C,陰極電流密度2~6A/dm2,陽極電流密度1~3A/dm2,循環(huán)過濾5~8次/h,均勻空氣攪拌。
1.6鍍高防腐鎳錫合金
用超邦化工的YF-737鍍高防腐鎳錫合金工藝,鍍層厚度為2~4μm。鍍液配方和工藝條件為:六水合氯化鎳145~175g/L,YF-737A添加劑480~550mL/L,YF-737B添加劑35~55mL/L,pH3.5~4.5,溫度60~68°C,陰極電流密度0.5~1.5A/dm2,陽極電流密度0.5~1.5A/dm2,陰極移動(dòng)速率3~ 7m/min。
1.7鍍沖擊金
采用超邦化工的AUORO8706鍍沖擊金工藝,鍍層厚度為0.03~0.12μm。將AUORO8706MUP開缸劑原液加入鍍槽中,再加氯金酸鈉1.6~4.0g/L,調(diào)節(jié)pH到0.6~0.8,然后在溫度42~48°C、陰極 電流密度1.5~2A/dm2和陰極移動(dòng)速率4~7m/min的條件下鍍沖擊金。 1.8烘干在70~85°C下烘烤20~30min。
2、工藝探討
2.1聚合硫氰酸鹽鍍Cu–Zn合金工藝
眾所周知,Cu–Zn合金鍍層的耐蝕性優(yōu)于Cu鍍層,且銅鋅合金的價(jià)格明顯低于金屬銅,因此銅鋅合金電鍍工藝的性價(jià)比高于氰化物鍍銅工藝。與氰化鈉相比,聚合硫氰酸鈉對(duì)陽極金屬的溶解能力較弱,電鍍過程中陽極表面易發(fā)生鈍化,陽極鈍化后,聚合硫氰酸鈉會(huì)被陽極氧化而失去配位能力。本工藝采用含銅68%的黃銅板作為陽極,陽極與陰極的面積比大于2︰1,并且通過陽極移動(dòng)促進(jìn)陽極溶解。
因此,本工藝鍍液穩(wěn)定性好,操作和維護(hù)簡(jiǎn)便。
2.2鍍層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
2.2.1電鍍Cu–Zn/Cu
本工藝采用聚合硫氰酸鹽鍍銅鋅合金工藝制備底鍍層,用其代替氰化物預(yù)鍍銅工藝可以改善鍍層質(zhì)量并降低電鍍成本。
聚合硫氰酸鹽鍍Cu–Zn合金溶液具備較高的深度能力,能夠解決鋅合金壓鑄件表面的封孔問題,但沉積速度較慢。參照氰化物預(yù)鍍銅后再焦磷酸鹽鍍銅的傳統(tǒng)工藝,本工藝在聚合硫氰酸鹽預(yù)鍍Cu–Zn合金后再進(jìn)行焦磷酸鹽鍍銅,以提高生產(chǎn)效率。
2.2.2電鍍Ni/Ni–Sn/Au
在光亮鍍鎳層上鍍裝飾性金時(shí),由于金的價(jià)格昂貴,因此金層一般很薄,通常僅1μm左右。這類裝飾性鍍金件在鹽霧試驗(yàn)中表現(xiàn)出的主要問題是:鍍金層下方的鍍鎳層首先發(fā)生腐蝕,導(dǎo)致鍍件出現(xiàn)銹蝕。因此,盡管鍍金層耐蝕性極高,但一般裝飾性鍍金層并不能有效保護(hù)鍍件不受腐蝕。也就是說,在光亮鍍鎳層上直接鍍裝飾性Au鍍層不能充分發(fā)揮鍍金層應(yīng)有的高耐蝕性。業(yè)界對(duì)該問題已有所認(rèn)識(shí),并嘗試在光亮鍍鎳層與鍍金層之間增加一層Ni–P合金,但對(duì)耐蝕性的改善效果有限。
Ni–Sn合金鍍層的耐蝕性遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于光亮Ni,在光亮Ni上鍍Ni–Sn合金可顯著提升體系的耐蝕性。 然而,Ni–Sn合金易鈍化,將其用作中間層存在界面結(jié)合力差的問題,因此目前尚無在Ni–Sn合金上鍍 金或其他金屬的應(yīng)用案例。
電位活化理論認(rèn)為,電鍍初期金屬表面氧化膜能否在負(fù)電位作用下還原成基體金屬,是決定鍍層結(jié)合力的關(guān)鍵。若鍍前氧化膜被充分還原,則鍍層與基體能形成良好結(jié)合。反之,若氧化膜未被去除,殘留的氧化膜就夾在基體與鍍層之間,使鍍層結(jié)合力下降,導(dǎo)致鍍層起泡甚至脫落。
較高的陰極極化作用會(huì)使金屬的沉積電位顯著正移,從而促進(jìn)基體表面氧化膜的還原,同時(shí)較低的沉積速率為氧化膜還原提供了充分的時(shí)間。這兩方面的作用能夠確保氧化膜在形成鍍層前充分還原,從而實(shí)現(xiàn)鍍層與基體的牢固結(jié)合。
鍍沖擊金工藝具有較高的陰極極化作用,且金離子的沉積速率較低,具備在易鈍化金屬表面施鍍且保障鍍層結(jié)合力的基本條件。因此在Ni–Sn合金鍍層表面鍍沖擊金能夠?qū)崿F(xiàn)鍍層之間的良好結(jié)合。
總體而言,Ni–Sn合金鍍層的耐蝕性優(yōu)異,在其上鍍薄金時(shí)整體的耐蝕性可超越鍍光亮鎳后直接鍍金的鍍層結(jié)構(gòu)。
3、鍍層性能
3.1結(jié)合力
依據(jù)GB/T5270–2005《金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學(xué)沉積層附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法評(píng)述》通過熱沖擊試驗(yàn)檢測(cè)鍍層結(jié)合力。將樣件在150°C下加熱60min后立即放入室溫的水中冷卻,未發(fā)現(xiàn)鍍層起泡和脫落,滿足標(biāo)準(zhǔn)要求。說明本工藝制備的鍍層具有良好的結(jié)合力。
3.2耐蝕性
依據(jù)GB/T10125–2021《人造氣氛腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn)》,對(duì)不同樣件進(jìn)行中性鹽霧試驗(yàn),結(jié)果列于表1。從中可見,采用本工藝制備的樣件1在經(jīng)歷240h中性鹽霧試驗(yàn)后無灰白色腐蝕物生成,比光亮Ni鍍層上直接鍍沖擊金的樣件2晚144h腐蝕,耐腐蝕性能顯著提高。對(duì)比樣件3和樣件4可知,面鍍層為Ni–Sn合金時(shí)在中性鹽霧試驗(yàn)中開始腐蝕的時(shí)間比面鍍層為光亮Ni的樣件晚118h,說明Ni–Sn合金鍍層的耐蝕性遠(yuǎn)優(yōu)于光亮Ni鍍層。
3.3耐濕熱性能
按照GB/T2423.3–2016《環(huán)境試驗(yàn)第2部分:試驗(yàn)方法試驗(yàn)Cab:恒定濕熱試驗(yàn)》進(jìn)行恒定濕熱試驗(yàn),結(jié)果顯示本工藝的鋅合金壓鑄件鍍沖擊金樣件在溫度40℃和相對(duì)濕度為93%的條件下試驗(yàn)500h后鍍層外觀無明顯變化,其耐濕熱性遠(yuǎn)高于業(yè)內(nèi)恒定濕熱試驗(yàn)168h無變化的要求。
表 1 不同鍍層結(jié)構(gòu)的鹽霧試驗(yàn)結(jié)果
Table 1 Salt spray test results of different coating structures
樣件編號(hào) | 工藝流程 | 鍍層結(jié)構(gòu) | NSS 試驗(yàn)時(shí)間 /h |
1 | 完整 | Cu–Zn/Cu/Ni/Ni–Sn/Au | 240 |
2 | 未鍍 Ni–Sn 合金 | Cu–Zn/Cu/Ni/Au | 96 |
3 | 未鍍沖擊 Au | Cu–Zn/Cu/Ni/Ni–Sn | 196 |
4 | 未鍍 Ni–Sn 合金、未鍍沖擊 Au | Cu–Zn/Cu/Ni | 78 |
3.4外觀
如圖1所示,采用本工藝制備的鍍金件具有典雅而靚麗的外觀。
4、結(jié)語
本工藝中采用聚合硫氰酸鹽體系電鍍銅鋅合金作為底層,工藝環(huán)保,符合國(guó)家的產(chǎn)業(yè)政策,是目前有望取代氰化物鍍銅的一種無氰鍍銅鋅合金工藝。在光亮鎳上鍍高防腐鎳錫合金后再鍍沖擊金,有效解決了鍍層結(jié)合力差的問題。本工藝制備的鍍層耐蝕性優(yōu)異,成本較傳統(tǒng)工藝低,具有良好的應(yīng)用前景。
參考文獻(xiàn):
[1] 楊家強(qiáng), 金磊, 楊防祖, 等. 無氰鍍金進(jìn)展概述[J]. 電鍍與精飾, 2019, 41 (12): 35-43.
YANG J Q, JIN L, YANG F Z, et al. Overview of cyanide-free gold plating progresses [J]. Plating & Finishing, 2019, 41 (12): 35-43.
[2] 秦足足, 李建三, 徐金來. 國(guó)內(nèi)外無氰鍍銅工藝研究進(jìn)展[J]. 電鍍與涂飾, 2015, 34 (3): 149-152.
QIN Z Z, LI J S, XU J L. Research progress of cyanide-free copper electroplating at home and abroad [J]. Electroplating & Finishing, 2015, 34 (3): 149-152.
[3] 馬濤, 李運(yùn)剛, 楊桂宇, 等. 鋼鐵基體無氰鍍銅工藝研究現(xiàn)狀[J]. 鑄造技術(shù), 2016, 37 (12): 2579-2582.
MA T, LI Y G, YANG J Y, et al. Research progress on non-cyanide copper plating of steel matrix [J]. Foundry Technology, 2016, 37 (12): 2579-2582.
[4] 廣州超邦化工有限公司. 一種聚硫氰酸鹽鍍銀層: 202320151949.6 [P]. 2023–12–09.
LI X H, GUO C W, LAI H W, et al. A polythiocyanate silver plated layer: CN220202061U [P]. 2023–12–09.
[5] 廣州超邦化工有限公司. 一種航空航天鈦合金零部件無氰鍍鎘鐵合金工藝: 202411962347.4 [P]. 2025–03–25.
GUO C W, WANG D M, LI X H, et al. A cyanide-free cadmium-plated ferroalloy process for aerospace titanium alloy parts: CN119685893A [P]. 2025–03–25.
[6] 煙 臺(tái) 南 山 學(xué) 院 . 一 種 鋅 合 金 壓 鑄 件 無 氰 鍍 鎘 鐵 合 金 工 藝 : 202411789059.3 [P]. 2025–04–08.
ZHOU Y C, GUO C W, ZHANG Q, et al. A cyanide-free cadmiumplated ferroalloy process for zinc alloy die casting: CN119663389A [P]. 2025–04–08.
[7] 廣州超邦化工有限公司. 一種無氰銅鋅合金鍍液及電鍍工藝: 202411436681.6 [P]. 2025–01–03.
GUO C W, LI X Y, CHEN M, et al. A cyanide-free copper–zinc alloy plating solution and electroplating process: CN119243274A [P]. 2025–01–03.
[8] 廣州超邦化工有限公司. 一種鋁合金件以無氰鍍銅鋅合金作底鍍層的鍍鋅鎳合金工藝: 202411269963.1 [P]. 2024–11–09.
GUO C W, LI X H, LI X Y, et al. A process for galvanizing nickel alloy on an aluminum alloy part with a cyanide-free copper–zinc alloy as the base coating: CN118979295A [P]. 2024–11–09.
[9] 廣州超邦化工有限公司. 一種航空航天合金鋼鍛造機(jī)加件的無氰鍍鎘方法: 202411436667.6 [P]. 2025–03–21.
GUO C W, ZHOU Z Y, LI X H, et al. A cyanide-free cadmium plating method for an addition of an aerospace alloy steel forging machine: CN119663389A [P]. 2025–03–21.
[10] 廣州超邦化工有限公司. 一種鎂合金無氰鍍鎘鐵合金工藝: 202411779601.7 [P]. 2025–02–21.
GUO C W, LI X Y, CHEN M, et al. A cyanide-free cadmium–iron
plating process of magnesium alloy: CN119491277A [P]. 2025–02–21.
[11] 廣州超邦化工有限公司 . 一 種 釹 鐵 硼 永 磁 體 鍍 鎳 工 藝 : 202411270163.1 [P]. 2024–12–06.
GUO C W, LI X H, LO X P, et al. A nickel plating process for NdFeb permanent magne: CN119082817A [P]. 2024–12–06.
[12] 廣州超邦化工有限公司. 一種適用于航空航天領(lǐng)域的釹鐵硼無氰鍍鎘鐵合金工藝: 202411779098.5 [P]. 2025–03–11.
GUO C W, LI X H, LAI H W, et al. A nickel plating process for NdFeb permanent magne: CN119592937A [P]. 2025–03–11.
[13] 陳康, 郭崇武, 彭超藝, 等. 以鍍鋅鎳合金和化學(xué)鍍鎳作底層的鋅合金壓鑄件鍍金工藝[J]. 電鍍與涂飾, 2020, 39 (11): 701-702.
CHEN K, GUO C W, PENG C Y, et al. Process for gold plating on zinc alloy die castings pre-plated with zinc–nickel alloy coating and electroless nickel coating [J]. Electroplating & Finishing, 2020, 39 (11): 701-702.
[14] 廣 州 超 邦 化 工 有 限 公 司 . 一 種 閃 鍍 金 鎳 合 金 的 鍍 層 結(jié) 構(gòu) : 202323593540.9 [P]. 2024–09–20.
GUO C W, LAI H W, PENG C Y, et al. The coating structure of a flash gold-plated nickel alloy: CN221740480U [P]. 2024–09–20.
[15] 宋振興, 馬樹元, 姚素薇等. 電鍍鎳-錫合金耐腐蝕性能研究[J]. 電鍍與精飾, 2013, 35 (10): 1-4,16.
SONG Z X, MA S Y, YAO S H, et al. Corrosion of resistance of electroplating Ni–Sn alloy [J]. Plating & Finishing, 2013, 35 (10): 1-4, 16.
[16] 馮紹彬, 商士波, 包祥, 等. 電位活化現(xiàn)象與金屬電沉積初始過程的研究[J]. 物理化學(xué)學(xué)報(bào), 2005, 21 (5): 463-467.
GUO C W, LAI H W, XIA L. Study of potencial activation phenomenon and initial process of metal electrodeposion [J]. Acta Physico Chimica Sinica, 2005, 21 (5): 463-467.
[17] 馮紹彬, 胡芳紅. “電位活化”現(xiàn)象與無氰直接鍍銅[J]. 電鍍與涂飾, 2008, 27 (3): 4-7.
GUO C W, LAI H W, XIA L. Study of potencial activation phenomenon and initial process of metal electrodeposion [J]. Acta Physico Chimica Sinica, 2008, 27 (3): 4-7.
[18] 郭崇武, 易勝飛. 鋼鐵件直接焦磷酸鹽鍍銅工藝研究[J]. 電鍍與精飾, 2009, 31 (8): 11-14.
GUO C W, YI S F, Investigation on direct copper plating technology of steel workpieces in pyrophosphate bath [J]. Plating & Finishing, 2009, 31 (8): 11-14.
(注,原文標(biāo)題:高耐蝕鍍金層的制備工藝及性能)
tag標(biāo)簽:高端裝飾制造,無氰鍍金技術(shù),聚合硫氰酸鹽,鎳錫合金耐蝕屏障,全流程解決方案